真空蒸着は高真空中で金属や酸化物を加熱蒸発させて基盤表面にデポジションさせる加工技術です。この技術は日本においても以前から実用化されていましたが、近年21世紀のキーテクノロジーとして新たに薄膜作成技術として注目をあびております。このような状況の中で当社は約20年前から新しい蒸着加工技術の開発を始め、現在では東大阪工場と平野工場にクリーンルームを設け各種の大型真空蒸着装置を導入して各種の蒸着膜の受託加工を行っております。また、国立の研究所や大学等との共同開発も積極的に展開しており、次世代のハイレベルな蒸着技術の開発も進めております。