■概要
スパッタリングは、イオン工学を応用した新しい表面処理技術で、樹脂メッキのような公害問題もなく、真空蒸着では困難であったCrをメッキできるという特色をもっております。
ABS樹脂以外の各種エンジニアリング・プラスチックスにもCrメッキができる………「プラスチックの表面処理に新しい時代を拓く」………新技術です。
Cr以外にも全んどすべての金属が可能で、更に樹脂メッキのCrに近い色調を出すことができるなど、数々の優れた点をもっております。そのため使用分野も広く、スパッタリング製品は装飾用として、自動車・弱電・オーディオ・化粧品など幅広い応用が期待されます。

■原理
スパッタリングは図1の様な真空装置を使用して行われます。被メッキ物（プラスチック）を治具に取りつけ、装置に入れた後、槽内を10^-5Torr程度の真空に引き、その後Arガスを10^-4Terr程度まで導入します。この状態でターゲットとアノードの間に高電圧を掛けるとグロー放電を発生し、Aガスがイオン化されます。このArイオンがターゲットに衝突して、飛び出したターゲット物質（Cr）が、被メッキ物に付着し膜を形成します。