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イオンプレーティング

 

通常の電子ビーム蒸着の成膜中に新しいイオン工学的技法を施して膜の質を一段と向上させることができます。膜の密度を高め耐環境性の向上や長期使用にも耐える高信頼性の膜ができます。

特に優れた膜特性が要求される特殊な光通信部品、ノンシフトタイプの液晶プロジェクター用フィルター、センサー部品、自動車用光学部品等に利用されております。

ノンシフトタイプ誘電体多層膜

これまで真空蒸着技術において改善が困難であった、蒸着直後からの50%半値波長のシフト(移動)を飛躍的に低減する事が可能となりました。
この技術により、さらに高品質な薄膜の作製が可能となり、より幅広い分野、より過酷な環境での御用途にも対応可能となりました。

弊社新技術により、現状光学特性についてお困りな点、あるいは高品質薄膜のお求め等、お客様のあらゆる御要望にお応え出来るものと自負致しております。

特徴

  • 成膜後、360℃にて1時間加熱あるいは煮沸30分後の波長シフト量0.5nm以下※
  • 無加熱低温蒸着によるノンシフト膜の作製も可能。密着性も良好
  • 液晶プロジェクター、センサー、デジカメ等、全薄膜製品について応用可能
  • 波長シフト量が少ない為、短納期対応可能

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